如今EDI超純水設備已廣泛應用到生產(chǎn)半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)。芯片行業(yè)在我國才剛剛起步，在未來有著廣闊的發(fā)展空間，接下來的10年將是我國芯片行業(yè)發(fā)展的機遇期，而應用優(yōu)質(zhì)超純水設備才能夠保證芯片行業(yè)的水質(zhì)符合標準，增加元件的成品率。

　　超純水在生產(chǎn)電子芯片的過程中必不可少。超純水設備是芯片生產(chǎn)中的重要一環(huán)，隨著芯片的精密度越來越高，生產(chǎn)環(huán)節(jié)對于水質(zhì)的要求也越來越高，為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外，超純水也是其中重要的因素之一。

　　由于現(xiàn)代工業(yè)技術(shù)的發(fā)展，對水質(zhì)要求的日益嚴格，純水制備技術(shù)相應地迅速發(fā)展起來，成為工業(yè)用水中應用廣泛的一個新門類。水質(zhì)指標接近理論純水稱為“超純水”，集中反映在電阻率、微粒、硅、溶解氣體、有機物、微生物等六個方面，其中電阻率達18MΩ·cm (25℃)，即水的純度為99.99999%，微量電解質(zhì)含量10～20μg/L，粒徑為0.2μm-1μm的微粒，含量小于130個/mL，活的細菌，微生物0.01個/mL左右，各項水質(zhì)指標基本達到電子級EW-1級水質(zhì)標準。

　　芯片行業(yè)制備超純水的傳統(tǒng)工藝是采用陰陽樹脂交換設備，該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經(jīng)常再生。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟，常采用反滲透工藝，或是采用反滲透后再經(jīng)過離子交換混床、拋光混床或EDI超純水設備工藝來制取超純水，保證出水水質(zhì)符合行業(yè)標準，滿足芯片行業(yè)用水需求。

　　EDI超純水設備還具有占地面積小，總投資少，運行環(huán)保等優(yōu)點。隨著技術(shù)的不斷提高，其應用領域也越來越多，在電廠化學水處理方面、食品、飲料、飲用水的制備、海水苦咸水的淡化等方面都有著重要的應用。